?LOW-E玻璃镀膜设备是利用真空磁控溅射方式在浮法玻璃表面进行镀膜的设备,镀膜舱室真空度为1.0E-6mbar的高真空,生产线采用真空磁控溅射方式在玻璃表面进行镀膜,保持高真空环境是LOW-E玻璃镀膜设备的基本条件。?LOW-E玻璃镀膜设备由真空腔室、镀膜腔室、狭缝阀、工艺介质平台、狭缝阀、传动系统、液压设备、冷却系统、放气系统、压缩空气系统、冷却水系统等组成,采用电气程序全自动控制。
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