多片式比较片装置的设计特点1)固定筒圆筒形状、大直径、厚壁结构的设计和周向对称的固定方式，可保证其有足够的强度和刚度，同时，还可阻止高温溅射磨料对其内部零部件污染，保证拨动盘转动的灵活性。2)圆形轴承座的设计，保证轴承座安装的密封性和垂直度；增大轴的直径尺寸，加大轴承座中两轴承的安装间距，提高其自身的强度和刚度，保证转动过程中轴1的刚度和拨动盘的旋转灵活性、位置重复的一致性。3)装载换位机构，通过扩大支承盘的直径，使该机构在平面方向的有效面积增大，可安装直径大(Φ26.5mm)的比较片，有利于光路调整，提高光学薄膜质量；比较片由单片玻璃作为一个比较片单元，比较片采用空间立体叠加安装方式，多片玻璃叠加安装在一个比较片存储筒内，实现一次可放置50~100片比较片，解决镀膜机镀制多层精密光学薄膜，比较片数量少影响镀膜层数和精度的问题。4)定位盘与槽型光藕的配合，通过槽型光藕来感知定位盘上三个均分的120°狭缝，控制电机转动停止。轴1旋转定位重复的一致性得到保证，带动拨动盘完成准确的拨片动作。5)转动密封馈入机构引入威尔逊密封机构，既保证电机通过齿轮啮合带动轴的灵活转动，又保证真空室对外部的密封作用。优化设计的真空镀膜机多片式比较片装置，其特点：(1)结构简单，强度高，可靠性好；(2)比较片装载数量大，生产效率提高，可镀制超多层精密光学薄膜；(3)比较片直径增大，提高薄膜监控的精度，降低对硬件系统的要求，系统容易实现自动控制； 给真空镀膜设备的真空泵换油该怎么做？在使用真空镀膜设备时，对机器的保养工作是十分重要的。他能有效提高机器的寿命，那么对于其中的真空泵的换油工作，究竟该如何呢？我们通常在机器工作3个月时间左右，就要对机器的油进行更换，在比较湿润的地方或者湿润的气候，这种地方的空气对于真空泵中的润滑油的污染是非常严重的，所以我们要根据情况缩短更换润滑油的时间。现在我就为您介绍下关于真空泵换油的操作。我们首先要做的就是把真空泵从真空电镀系统中拆出来。将底盘电机一端垫高些，打开放油塞放油，转动真空泵、捂住排气口，使腔内污油全部从放油口放出。再从进气口处加入新油100—500ml持续转动5—10转以上，对内部进行清洗。照此操作3—5次，等到污油放清后，再装上放油塞，将真空泵放平从进气口及加油孔分别加入新油，换油即告完毕。真空泵换油的是不适宜长久的开动电机，以避免使排气阀片跳动太过于剧烈和疲劳。严禁使用煤油、酒精等对泵作非拆卸的清洗。真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能真空镀膜机电子束蒸发与磁控溅射镀铝性能分析研究，为了获得性能良好的半导体电极Al膜，我们通过优化工艺参数，制备了一系列性能优越的Al薄膜。通过理论计算和性能测试，分析比较了真空镀膜设备电子束蒸发与磁控溅射两种方法制备Al膜的特点。严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。附着力反映了Al膜与基片之间的相互作用力，也是保证器件经久的重要因素。真空镀膜设备溅射原子能量比蒸发原子能量高1-2个数量级。真空镀膜机高能量的溅射原子沉积在基片上进行的能量转换比蒸发原子高得多，产生较高的热能，部分高能量的溅射原子产生不同程度的注入现象，在基片上形成一层溅射原子与基片原了相互溶合的伪扩散层，而且，在真空镀膜设备成膜过程中基片始终在等离子区中被清洗，清除了附着力不强的溅射原子，净化基片表面，增强了溅射原子与基片的附着力，因而溅射Al膜与基片的附着力较高。</p 产品：至成镀膜设备供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
