至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机是研究超导、类金刚石、光学、磁性等高质量薄膜和材料表面改性的光机一体化的现代化镀膜设备。该机采用四靶、双离子源、离子源为考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正离子束或中性粒子轰击靶材料，使材料表面的原子和分子从母材中溅射出来，沉积在基片上成膜。可镀制任意材料，包括金属、合金、超导体、半导体、绝缘体等。该机采用80年代刚刚发展起来的离子束溅射技术，利用双离子源、主枪，对靶材轰击，辅枪在镀前对基片进行清洗，增强基片的活性，提高结合力及纯度。沉积过程中低能轰击膜，增强沉积原子表面扩散和迁移，减少薄膜结晶结的缺陷，并配有对基片处理的各种功能，如加热、冷却、旋转、激光处理、掩膜等。引出栅φ25mm离子能量，1500ev能量束流大于80mA。 不同类型镀膜机的适用范围是怎样的呢？磁控溅射镀膜设备：应用于信息存储领域，如磁信息存储、磁光信息存储等。磁控溅射镀膜机：应用于防护涂层，如飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。磁控溅射镀Al膜生产线：应用于太阳能利用领域，如太阳能集热管、太阳能电池等。光学镀膜设备：应用于光学薄膜领域，如增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线：应用于信息显示领域，如液晶屏、等离子屏等。触摸屏连续式镀膜生产线：应用于触摸屏领域，如手机、电脑、MP4等数码产品屏幕等。磁控中频多弧离子镀膜设备：应用于硬质涂层，如切削工具、模具和耐腐蚀零件等。PECVD磁控生产线：应用于集成电路制造，如薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。蒸发式真空镀膜设备：应用于在装饰饰品上，如手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜。低辐射玻璃镀膜生产线：应用于建筑玻璃方面，如阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。抗反射导电膜连续磁控溅射生产线：应用于电子产品领域，如液晶显示器、液晶电视、MP4、车载显示、手机显示、数码相机和掌声电脑等。多弧离子真空镀膜机发展历程及特点20世纪70年代以来，随着工业技术的不断发展，对材料的综合性能要求不断提高，单一材料性能已经不能满足某些特征环境下工作机械的性能要求。离子真空镀膜机镀膜技术通过物理作用，使基体表面沉积出薄膜，在美观的同时又有效提高镀件的物理化学性能，从而提高产品的使用寿命。离子镀技术是当今使用面广、的表面处理技术之一。据统计，国内外已有近一半以上表面处理使用多弧离子镀技术，特别适用于对性、耐腐蚀性有特殊要求的场合。80年代后期，国内外相继开发了离化效率更高的电弧放电真空离子镀、多弧真空离子镀等，使离子镀技术进入了一个新阶段.近年来，离子真空镀膜机的自动化程度得到了较快发展，国外的设备采用智能一体化控制系统，可精准计算和控制镀膜过程中的基体温度、气体流量和靶电流等关键性参数。国内真空离子镀膜机的自动化程度也有了一定的发展，但在镀膜产品稳定性和精准性方面尚需提升，设备依赖进口。同时多弧离子镀膜机低端产品市场存在供大于求的情况，价格竞争较为激烈。</p 产品：至成离子镀膜机供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
