至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机至成镀膜机多靶离子束溅射镀膜机是研究超导、类金刚石、光学、磁性等高质量薄膜和材料表面改性的光机一体化的现代化镀膜设备。该机采用四靶、双离子源、离子源为考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正离子束或中性粒子轰击靶材料，使材料表面的原子和分子从母材中溅射出来，沉积在基片上成膜。可镀制任意材料，包括金属、合金、超导体、半导体、绝缘体等。该机采用80年代刚刚发展起来的离子束溅射技术，利用双离子源、主枪，对靶材轰击，辅枪在镀前对基片进行清洗，增强基片的活性，提高结合力及纯度。沉积过程中低能轰击膜，增强沉积原子表面扩散和迁移，减少薄膜结晶结的缺陷，并配有对基片处理的各种功能，如加热、冷却、旋转、激光处理、掩膜等。引出栅φ25mm离子能量，1500ev能量束流大于80mA。 真空镀膜设备_磁控溅射镀膜设备技术应用蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机，主要适用于塑料、陶瓷、玻璃金属材料表面镀制金属化装饰膜。由于镀膜室为立式容器，所以它具有卧式镀膜机的一切优点，又利于自重较大的、易碎的镀件装卡，更可方便地实现自动生产线，是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。本机镀部分产品可不做底油。真空镀膜设备机主要特点配用改进型高真空排气系统，抽速快、、节电、降噪和延长泵使用寿命;实现蒸发、磁控溅射、自动控制，操作简单，工作可靠;蒸发镀应用新型电极引入装置，接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛，各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车，操作方便。(或双门蒸发、磁控两用机)至成真空科技业务范围真空镀膜成套设备与技术，真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件，真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。真空镀膜设备故障诊断与排除、老产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究，咨询服务。新技术、新设备、新工艺至成真空科技新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，配用改进型高真空抽气系统及全自动控制系统，抽速快、、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。电子束蒸发真空镀膜机应用及特点真空镀膜机已经广泛运用到我们的生活中，以前物件镀上一层一层的膜是为了延长寿命，防止腐蚀。然而随着人民的生活质量不断的提升，对于物件外表的膜层不仅仅只是停留在延长使用寿命上，同时更多关注物件的外观是否绚丽美观。真空镀膜机在日常生活中运用无处不在，使用的行业不一样，镀的产品不一样，镀膜机的型号是不相同的。今天至成真空小编为大家介绍一下电子束蒸发真空镀膜机应用及特点。首先简单为大家介绍一下蒸发系列卷绕真空镀膜机，它主要用于在塑料、布、纸、金属箔等带状材料表面真空蒸镀金属膜。产品广泛用于包装、印刷、防伪、纺织、电子工业等领域。本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点电子束蒸发真空镀膜机真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。真空镀膜有两种方法,一是蒸发,一是溅射。在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。那么电子束蒸发镀膜机的结构特点有哪些呢？（1）卷饶系统采用支流或交流变频调速，具有运行平稳、速度高、对原卷材不划伤、不折皱，收卷端面征集等特点；（2）张力控制采用进口数字张力控制系统，具有张力、线速度恒定，动作的特点；（3）各组送丝由微机电机独立控制，可总调或单独调速，并有速度显示；（4）真空系统配置精良，抽气速度快，采用PLC控制；（5）配备大功率电源，镀膜，膜层均匀性好。</p 产品：至成离子镀膜设备供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
