多弧离子PVD镀膜设备镀工艺及应用离子镀基本工艺流程①工件的预热．一般的离子镀方法使用烘烤加热装置对工件进行加热，而热阴极离子镀则是利用等离子电子束轰击工件；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热，达到预热的目的，有时电弧离子镀也采用辅助烘烤加热装置对工件进行预热。②离子轰击溅射清洗．一般离子镀的离子轰击溅射清洗是基片施加负偏压，利用辉光放电产生的Ar离子轰击基片，对基片进行离子轰击溅射清洗，而热阴极离子镀是利用等离子电子束轰击辅助阳级，Ar离子轰击基片进行离子轰击溅射清洗；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热的同时对工件进行离子轰击溅射清洗。③离子沉积.不同的离子镀方法在离子沉积时，所使用的源和离化方法不同，具体的设备不同，沉积的膜层不同，其工艺程序和工艺参数也不同，因此，应根据具体情况确定沉积的工艺程序和工艺参数，还应注意在整个沉积过程中保持工艺参数的稳定。 光学真空镀膜机清洗和保养方法光学薄膜在我们的生活中无处不在，从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说，平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。光学镀膜技术以及普及到人们生活方方面面，因此光学真空镀膜机也是大家目前非常关注的话题。今天至成真空小编为大家介绍一下光学真空镀膜机在平时运行的时候该如何清洗和保养问题，希望能让大家对光学真空镀膜机多一些了解。首先我们来介绍一下光绪真空镀膜机的清洗问题：设备使用一个星期后，因镀料除镀在工件表面外，亦因无定向性而工作室内的衬板上镀料，并越镀越厚，该层膜厚因组织、繞疏松，吸收大量气体而造成真空镀膜设备抽气越来越慢。此时，应对工作室及衬板进行清洗，如不必要拆落来的部件，可用砂纸打磨干净。因此，衬板必须烘干水份才能安装，烘干前，衬板的水分尽量抹干，工作架等部件用砂纸清洁后，需要把真空室的所有灰尘清理干净，此可用吸尘器吸干净灰尘。安装衬板时，真空室及衬板都需要用酒精控拭干净。如使用电子枪及离子源辅助镀膜，可能会造成清洁困难，可使用喷沙等方法来清洁。离子真空镀膜机镀膜应用范围介绍近很多客户关于离子真空镀膜机相关知识，问的问题各不相同，但是从这些问题里面能发现一个问题，客户对离子镀膜机相关知识了解甚少，只是停留在基础表面，因此在和我们沟通的过程中，会出现沟通不是很顺利，因为我们需要详细的介绍很多性的问题。今天至成真空小编趁着这个机会，为大家详细介绍一下离子真空镀膜机镀膜应用范围，这样大家以后也知道离子真空镀膜机后期能运用到哪些行业，及离子镀膜机能镀什么产品。1、离子真空镀膜机镀膜的应用范围：半导体集成电路、光导纤维、太阳能电池、太阳能热水器、太阳灶、光盘、磁盘、敏感元件、平板显示器、选择吸收玻璃、智能窗玻璃、人体植入部件等功能薄膜；2、离子镀膜技术应用范围：工模具超硬涂层、航天轴承、机械零件；汽轮机叶片的耐蚀涂层；装饰件、手机配件。3、离子镀薄膜的膜层结构：单源单层：氮化钛涂层TiN、TiC、ZrN、CrN、AlN等。硬度约1800—2600Hv；多元单层：TiCN、TiAlN等。硬度2200—2800Hv；复合涂层：TiN/TiCN、TiN/TiCN/TiN、TiN/ZrN、TiN/CrN、TiN/AlN、TiN/C3N4、TiN/C3N4/DLC等。硬度3500—4500Hv；4、纳米结构涂层；多层膜中的每一层厚度为nm,也称之为“调制周期”。各层可以是化合物/化合物，也可以是金属非晶/纳米金属化合物，如：nc-TiN/a-Si3N4、Ti-Al-N、Ti-B-N等。调制周期6.8—30nm，硬度可达4700—10000Hv（47—100GPa）。要求镀膜机的配置能够满足沉积薄膜的厚度为0.2—5μm的纳米多层膜。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
