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主营产品:真空镀膜设备,中频离子镀膜设备,多弧离子镀膜设备等

[供应]中频离子镀膜机-韶关离子镀膜机-至成离子镀膜机制造

更新时间:2019/10/17 17:18:45
中频离子镀膜机-韶关离子镀膜机-至成离子镀膜机制造







PET真空镀膜设备相关问题的解决方法PET真空镀膜设备平均水消耗量为0.6m3/小时,每小时平均耗电:850W,每30天更换5次过滤芯,更换过滤芯数量20只,每天消耗过滤芯数量:0.7只,过滤芯可后级更换前级,更换周期也可根据具体情况延长。设备在交付时会提供操作、调试、维修等一系列全套技术资料,包括操作和维修手册。维修手册中含电路图、气路图、水管路图,并列出控制设备、控制元件、易耗品以及易磨损的部件名称、型号、规格、制造商或供应商,以便用户可以随时修理与维护清洗设备。 PACVD硬质涂层真空镀膜机系统的特点:(1)2个等离子激发源(射频,直/直流脉冲)(2)安装在两边的2闭合场非平衡磁控管溅射(3)带有一个前门的六角形真空室,保证一个洁净的环境(4)干式真空系统设计安装在一个单独的空间,处理高吞吐量的碳氢化合物和其他工艺气体(5)基材和导电与非导电涂层及组合高效原位清洗的离子激发系统(6)可选择的等离子体激发模式和频率使等离子的密度和能量适应基材增压特性,以小压强进行电离作用(8)单独的PACVD工艺中不强制转动的时候,一种行星式转动也能够使溅射涂层统一沉积(9)特别是在PACVD过程特殊设计的进气系统能够优化涂层的均匀性和清洁度(10)泵的选择编排和上下的蒸汽压力调节,保证了涂层系统的高可靠性(11)iFIX基础的控制系统,易于批次、配方和报警处理(12)所有数据的采集,保证良好的过程控制。工艺过程中定制曲线图做到良好检查方案。在批次运行过程中,操作者也可更改或新建工艺(13)用户可自行设置进入控制系统的权限,以保证系统的质量和安全性中频磁控+多弧离子溅射镀膜机特点中频磁控+多弧离子溅射镀膜机具有:结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产、操作方便、能耗低性能稳定等优点。广泛应用于切削刀具如齿轮滚刀,插刀,铣刀,钻头等表面沉积超硬涂层,也可用于钟表,眼镜架,手机壳、锁具,洁具等各类小五金表面沉积装饰涂层,本设备可实现一机多用沉积多种膜层,膜层细腻,有纯钛(Ti)氮化钛(TiN)氧化钛(TiO)纯锆(Zr)氮化锆(ZrN)碳化钛(TiC)纯铬(Cr)氮化铬(CrN)碳氮化钛(TiCN)氮化铝钛(TiAlN),PVD镀膜膜层目前常见的颜色主要有:深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色,蓝色等。亮度好,饱满度好至成真空科技可以根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。</p 产品:至成真空科技供货总量:不限产品价格:议定包装规格:不限物流说明:货运及物流交货说明:按订单
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