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主营产品:磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE

[供应]聚焦离子束刻蚀机供应商-聚焦离子束刻蚀机-创世威纳公司

更新时间:2019/10/25 7:59:43
聚焦离子束刻蚀机供应商-聚焦离子束刻蚀机-创世威纳公司





离子束刻蚀的入射角在离子束刻蚀过程中,选择合适的入射角可以提高刻蚀效率,聚焦离子束刻蚀机,这只是一个方面。另一个方面是靠合适的入射角度控制刻蚀图形的轮廓。下图给出了不同角度的刻蚀结果。创世威纳公司拥有的技术,我们都以质量为本,聚焦离子束刻蚀机生产厂家,信誉高,我们竭诚欢迎广大的顾客来公司洽谈业务。如果您对离子束刻蚀机产品感兴趣,欢迎点击左右两侧的在线客服,或拨打咨询电话。 刻蚀技术北创世威纳京生产、销售离子束刻蚀机,我们为您分析该产品的以下信息。刻蚀技术(etching technique),是在半导体工艺,按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术。刻蚀技术不仅是半导体器件和集成电路的基本制造工艺,而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。刻蚀还可分为湿法刻蚀和干法刻蚀。离子束刻蚀离子束刻蚀也称为离子铣,是指当定向高能离子向固体靶撞击时,能量从入射离子转移到固体表面原子上,如果固体表面原子间结合能入射离子能量时,固体表面原子就会被移开或从表面上被除掉。通常离子束刻蚀所用的离子来自惰性气体。离子束较小直径约10nm,离子束刻蚀的结构较小可能不会小于10nm。目前聚焦离子束刻蚀的束斑可达100nm以下,少的达到10nm,获得较小线宽12nm的加工结果。相比电子与固体相互作用,离子在固体中的散射效应较小,并能以较快的直写速度进行小于50nm的刻蚀,故而聚焦离子束刻蚀是纳米加工的一种理想方法。此外聚焦离子束技术的另一优点是在计算机控制下的无掩膜注入,甚至无显影刻蚀,直接制造各种纳米器件结构。但是,聚焦离子束刻蚀机哪家好,在离子束加工过程中,损伤问题比较突出,且离子束加工精度还不容易控制,控制精度也不够高。想要了解更多离子束刻蚀的相关信息,欢迎拨打图片上的热线电话!  聚焦离子束刻蚀机供应商-聚焦离子束刻蚀机-创世威纳公司由北京创世威纳科技有限公司提供。聚焦离子束刻蚀机供应商-聚焦离子束刻蚀机-创世威纳公司是北京创世威纳科技有限公司(www.weinaworld.com.cn)今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:苏经理。 产品:创世威纳供货总量:不限产品价格:议定包装规格:不限物流说明:货运及物流交货说明:按订单
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