真空镀膜机离子镀是什么?很多人听说过离子真空镀膜机，但是对于真空镀膜机离子镀了解甚少，离子镀是一种镀膜工艺中的一种，下面为大家详细介绍一下：首先给大家它定义：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。它的原理是：蒸发源接阳极，工件接阴极，当通以三至五千伏高压直流电以后，蒸发源与工件之间产生辉光放电。由于真空罩内充有惰性Ar气，在放电电场作用下部分Ar气被电离，从而在阴极工件周围形成一等离子暗区。带正电荷的Ar离子受阴极负高压的吸引，猛烈地轰击工件表面，致使工件表层粒子和脏物被轰溅抛出，从而使工件待镀表面得到了充分的离子轰击清洗。随后，接通蒸发源交流电源，蒸发料粒子熔化蒸发，进入辉光放电区并被电离。带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，随同Ar离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。它能分为四类：①磁控溅射离子镀。②反应离子镀。③空心阴极放电离子镀。④多弧离子镀。它的特点：镀层附着性能好，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生；绕镀能力强，因此这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽和窄缝，等其他方法难镀的部位；镀层质量好，离子真空镀膜机镀膜的镀层组织致密、无孔、无气泡、厚度均匀；清洗过程简化。 多弧离子真空镀膜机工艺如何运用到刀具行业很多人对多弧离子真空镀膜机其实并不太了解，更不了解镀膜设备的工艺如何运用到刀具行业，很多客户都有这样的疑惑，也经常会问我们这方面的问题，特别是对真空设备的爱好者，今天至成真空小编为大家详解介绍一下多弧离子真空镀膜机工艺如何运用到刀具行业。为了满足镀膜制和各种多层薄膜及复合化合物薄膜的要求，多功能多弧离子镀膜已成为目前研究发展的方向。多弧离子镀膜设备采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。多弧离子镀膜采用孪生靶的技术，克服直流溅射固有的打火等不良弊病，使镀件的耐蚀性能又有所提高和改善。多弧离子镀膜的中心安装柱状多弧靶，靶材为钛或锆。它不但能保持多弧技术离化率高、沉积速率高的特点，还能有效地降低平面多弧靶沉积过程中很难避免的“液滴”的缺陷，从而可以制备出低孔隙率的金属薄膜或化合特薄膜；在周边安装了孪生平面磁控靶，靶材为铝或硅；中外，在周边安装多个平面多弧蒸发源，靶材为铬或镍，可以镀制多层金属膜和多层复合膜。复合式离子镀膜设备由于具有多种不同形式镀膜装置及不同材质的蒸发源及发射靶，它们既可以独立地分别工作又可以同时工作，既能制备纯金属膜又能制备金属化合物膜或复合材料膜；既能制备单层薄膜又能制备多层复合膜，用途极其广泛。真空镀膜设备离子镀的类型及特点离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。表离子镀的种类及其特点种类蒸发源离化方法工作环境特点用途直流放电法电阻辉光放电dc:0.1kv～5kv惰性气体1pa，0.25ma/cm2结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！耐热，润滑等镀件弧光放电法电子束、灯丝弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa离化率高，易制成反应膜，可在高真空下成膜，利于提高质量切削工具、金属装饰等镀件空心阴极法空心阴极等离子体电子束dc:0v～200v惰性气体或反应气体离化率高，蒸发速度大，易获得高纯度膜层装饰、等镀件调频激励法电阻、电子束射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性气体或反应气体离化率高，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差光学、半导体等镀件电场蒸发法电子束二次电子dc:1kv～5kv真空不纯气体少，能形成较好的膜电子元件多阴极法电阻、电子束热电子dc:0v～5kv惰性气体或反应气体低速电子离化效果好装饰、电子、精密机械等零件聚焦离子束法电阻聚集离子束dc:0v～5kv惰性气体因离子聚束，膜层结合力强电子元件活性反应法电子束二次电子dc:200v反应气体o2、n2、ch4、c2h4等金属与反应气体组合能制备多种倾倒物膜层电子、装饰、等镀件</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
