溅镀机设备与工艺（磁控溅镀）溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射枪（sputtergun）磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须控制参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力（5×10-1—1.0Pa），若各参数皆稳定，膜厚可以镀膜时间估计出来。靶材的选择与处理十分重要，纯度要佳，质地均匀，没有气泡、缺陷，表面应平整光洁。对于直接冷却靶，须注意其在溅射后靶材变薄，有可能破损特别是非金属靶。一般靶材薄处不可小于原靶厚之一半或5mm。磁控溅镀操作方式和一般蒸镀相似，先将真空抽至1×10-2Pa，再通入Ar气（Ar）离子轰击靶材，在5×10-1—1.0Pa的压力下进行溅镀其间须注意电流、电压及压力。开始时溅镀若有打火，可缓慢调升电压，待稳定放电后再关shutter.在这个过程中，离子化的惰性气体（Ar）清洗和暴露该塑胶基材表面上数个毛细微空，并通过该电子与自塑胶基材表面被清洁而产生一自由基，并维持真空状态下施以溅镀形成表面缔结构，使表面缔结构与自由基产生填补和高附着性的化学性和物理性的结合状态，以在表面外稳固地形成薄膜.其中，薄膜是先通过把表面造物大致地填满该塑胶毛细微孔后并作链接而形成． 真空电镀的主要应用范围及真空镀膜机冷却系统的原理真空电镀大家应该都有一定的了解，它主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点。正是由于这些优点，所以真空电镀设备的应用非常广泛，如在ABS料、ABS+PC料、PC料，家用电器、化妆品包装等产品上都有着不错的应用。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高，单价比水电镀昂贵.现对其工艺流程作简要介绍：产品表面清洁--〉去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装。而真空电镀的做法也是相当复杂，一般是在素材上先喷一层底漆，再做电镀．由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分．另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况．喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现。真空镀膜机中电磁控制的发展真空镀膜机在现在对产品的表面处理上具有的优势还是比较明显的，这种镀膜机械比起其他的表面处理设备来说，在加工方面，本身是需要在真空的环境中进行的，这样的镀膜方式就把外界的一些影响因素给“屏蔽”了，这是这种真空镀膜机的一个优势之处。而对于真空镀膜机械来说，目前的电路的发展也十分迅速，很多电子化的产品也被运用到电路当中，也使得这些机械逐渐发展成为了电动化、自动化的设备。其中溅控溅射镀膜机就是比较好的一类代表，作为一种装置来说，它也是体现出真空镀膜技术手段的代表，利用磁力进行控制，通电产生的电磁效用等都对镀膜技术进行辅助。可以说是目前表面处理技术中值得关注的一类，而电磁控制的镀膜机械的产生对现在的镀膜设备来说，提高了镀膜时候膜层的粒子量，这是这种镀膜机械的主要运用了。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
