高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在单晶硅中掺入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半导体;掺入微量的第VA族元素，形成n型半导体。p型半导体和n型半导体结合在一起形成p-n结，就可做成太阳能电池，将辐射能转变为电能。在开发能源方面是一种很有前途的材料。另外广泛应用的二极管、三极管、晶闸管、场效应管和各种集成电路(包括人们计算机内的芯片和CPU)都是用硅做的原材料。 高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。1、粉末冶金法：指钨粉经过成形后，氧化钴靶材 高纯钴靶材，加热到其熔点下的某个温度，钴靶，通过物质迁移完成致密化的过程，终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。2、熔炼法：指将钨原料加热到其熔点以上形成液相，高纯钴，去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程，根据所采用的手段不同，具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。3、化学气相沉积：指以钨化合物气体（一般为WF6）为钨源，在一定温度下被H2还原，将生成的钨沉积在特定的基底上，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯（或者制品）的过程。中诺新材（北京）科技有限公司有的合金熔炼设备，高真空感应熔炼炉，电弧熔炼率，悬浮熔炼炉等。采用熔炼铸造工艺，高纯钴靶材99.95%，经过锻造、热处理及精密的机加工工艺，定制不同配比、不同尺寸的特种合金靶材靶材。采用该工艺制备的靶材能够形成合金相，组织均匀，纯度高，晶粒细小。部分定制靶材产品如下：镍铬合金 镍铜合金 镍铁合金 镍钒合金 钛铝合金 钛铬合金 铜合金 铟锡合金 氧化钴靶材 高纯钴靶材-中诺新材-高纯钴由中诺新材（北京）科技有限公司提供。中诺新材（北京）科技有限公司（www.znxc.com）实力雄厚，信誉可靠，在北京 海淀区 的其它等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善理念将引领中诺新材和您携手步入，共创美好未来！同时本公司（www.3.znxc.com.cn）还是从事金锡合金，金锗合金，金锗镍合金的厂家，欢迎来电咨询。 产品：中诺新材供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
