科研实验二氧化硅靶材SiO2靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
纯度 99.99%
产品介绍
硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。二氧化硅晶体中，硅原子位于正四面体的中心，四个氧原子位于正四面体的四个顶角上，许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连，每个氧原子为两个四面体共有，即每个氧原子与两个硅原子相结合。二氧化硅的简式是SiO2，但SiO2不代表一个简单分子仅表示二氧化硅晶体中硅和氧的原子个数之比。纯净的天然二氧化硅晶体，是一种坚硬、脆性、难溶的无色透明的固体，常用于制造光学仪器等氮化硼（BN）是由氮原子和硼原子所构成的晶体，通常为黑色、棕色或暗红色，为闪锌矿结构，具有良好的导热性，硬度仅次于金刚石，是一种超硬材料，常用作刀具材料和磨料。氮化硼具有抗化学侵蚀性质，不被无机酸和水侵蚀，微溶于热酸。在热浓碱中硼氮键被断开，1200℃以上开始在空气中氧化，熔点为3000℃，稍3000℃时开始升华，真空时约2700℃开始分解。应用领域广泛。
产品参数
中文名 二氧化硅 化学式 SiO&8322
分子量 60.084 密度（室温） 2.2 g/cm3
熔 点 1650（±50）℃ 沸 点 2230℃
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服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
交货周期：现货当天发，常规期货2周
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
