公司产品包括石英掩膜版，掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光罩（英文：Reticle， Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。 光掩膜版制造行业的发展趋势关键受中下游平板显示制造行业、触摸制造行业、电子行业和线路板制造行业的发展趋势危害，与中下游终端设备制造行业的流行消费电子产品（手机上、平板电脑、智能穿戴设备）、笔记本、车载电子、通信网络、电器产品、LED照明灯具、物联网技术、医i疗电子器件等商品的发展趋向息息相关，预估将来两年在我国光掩膜版制造行业将向几寸、精细化管理、产业链方位发展趋势。2011年在我国光掩膜版生产制造经营规模为0.87万平方，2016年生产制造经营规模提高至1.69万平方，年复合增长率超过14.20%。 光刻板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。（光感应胶别称光致抗蚀剂，是运用光化学反应开展图型迁移的新闻媒体性精细化学品，依据不一样的主要用途特性等有多种多样型号规格，现阶段光掩模板大部分全是用的正性胶。光刻正性胶在经激光器直射后，曝i光区域邻重氮萘醌化学物质产生光氧催化反映重排列成羧酸，使胶纸加快溶解稀碱溶液。）把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝i光在光感应胶上，被曝i光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝i光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射i精准定位，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝i光，显影，去光感应胶，终运用于光蚀刻工艺。 南京掩膜版-制版(在线咨询)由苏州微麦光电有限公司提供。苏州微麦光电有限公司（www.szphotomask.com）位于苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前苏州制版在其它中享有良好的声誉。苏州制版取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。苏州制版全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。 产品：苏州制版供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
