微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响
微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，微弧氧化技术要求，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，微弧氧化技术，因此，若时间足够长，镁合金微弧氧化技术，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。
微弧-电泳工艺简介
微弧电泳复合处理工艺的核心是以微弧氧化处理工艺取代磷化（或阳极氧化）等前处理，正是由于微弧氧化处理的工艺特点及其形成陶瓷层的表面特征，铝合金微弧氧化技术，才得以实现简化电泳工艺、大幅度提高铝、镁合金耐蚀性的目的。
铝合金微弧－电泳氧化膜层应控制在5μ以下；镁合金膜层控制在5－15μ为宜。
微弧－电泳工艺流程：氧化 — 清洗— 喷淋清洗— 热风烘干— 电泳 —喷淋清洗 — 烘干固化
微弧氧化膜具有特殊的多孔质结构，使得它在金属材料功能化方面有着巨大的应用潜力，如在微弧氧化膜的细孔中填充润滑性物质，可以作为性能优良的减摩抗磨材料。影响微弧氧化膜生长和性能的因素很多，有待于系统而深入地研究，以弄清楚各因素对膜性能的影响规律，使得不同性能要求下的微弧氧化工艺更具有可重现性。 微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线
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