掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。 光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造，称之为光刻掩模板。 苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园，是集研究、设计、生产、销售于一体，制作掩膜版的企业，拥有高标准的全净化厂房，优i秀的高素质人才、的研发团队。 苏州制版，面向中小企业、大学、研究所客户，提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版！根据客户的构想、草图，独i家定制版图提供技术咨询服务！苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版，目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。常规铬版CD精度±0.2um，光刻板，高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外，还拥有全自动显影柜，可以批量进行显影处理，保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1.2um，精度±0.1um。可以有效地排除缺陷问题。 制版厂-浙江光刻板由苏州微麦光电有限公司提供。制版厂-浙江光刻板是苏州微麦光电有限公司（www.szphotomask.com）升级推出的，以上图片和信息仅供参考，如了解详情,请您拨打本页面或图片上的联系电话，业务联系人：马经理。 产品：苏州制版供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
