氟化镁在高温时易发生氧化或水解反应，生成氧化镁杂质，氧化镁熔点较高，不易挥发，残留在生长体系中的氧化镁会导致晶体过滤降低，洪泽氟化镁，并造成晶体内部产生散射颗粒等缺陷，因此在整个晶体生长过程中必须避免氧气及水汽存在。在氟化镁原料中需要加入一定质量百分比的除氧剂，这样不仅能有效除去原料和晶体炉内的水分，还可以进一步氟化原料，氟化镁 厂家，避免氟化镁晶料水解或氧化。
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