光罩的制作过程1. 制作石英基板。空白基板通常为6英寸见方，厚度为0.25英寸。它由纯熔融石英制成，通常简称为石英。基板表面必须非常平坦且无缺陷。2. 沉积吸收层。在基板上是薄的吸收层，可以阻挡来自光刻机的曝光。3. 沉积光刻胶层。在吸收层的顶部是一层薄的光刻胶，暴露在光罩写入机（Mask Writer）之下。4. 写入。由光罩写入机完成，使用电子束曝光光刻胶，将芯片设计的图案数据呈现在光刻胶上。5. 烘烤。烘烤曝光的光刻胶，要求在光罩上的每个点都温度均匀。6. 显影。 使用显影剂使光刻胶的图像显影，漂洗并干燥而不留下任何残留物。因为光刻胶图案在蚀刻工艺期间用作光罩，所以该显影步骤是关键的，因为显影中的任何不均匀性将导致终图案尺寸的不均匀性。7. 蚀刻。然后将显影的光罩放到到蚀刻机中，蚀刻机使用等离子体地蚀刻掉由写入和显影步骤带来的吸收剂材料。8. 剥离和清洁。将蚀刻好的光罩装入清洁机器中，清洁机器使用干等离子体或湿化学法剥离光刻胶。9. 测量。测量关键尺寸（CD）和图案精度，以确保它们符合客户规格。10. 检查。为了验证图案精度，将光掩模加载到Inspection机台中。如果发现缺陷，则对它们进行分类和必要的修复。
什么是光罩，作用是什么光罩：在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像至相片上。又称光掩模版、掩膜版，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK，材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为：曝光，显影，掩膜板，去感光胶，后应用于光蚀刻。光掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。 掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。 宿迁掩膜板-光刻版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）位于苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前苏州制版在光电子、激光仪器中享有良好的声誉。苏州制版取得商盟认证，我们的服务和管理水平也达到了一个新的高度。苏州制版全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。 产品：苏州制版供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
