公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！干法刻蚀把硅片表面曝露于气态中产生的等离子体，等离子体通过光刻胶中开出的窗口，与硅片发生物理或化学反应（或这两种反应），从而去掉曝露的表面材料。干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的方法。湿法刻蚀用液体化学试剂（如酸、碱和溶剂等）以化学方式去除硅片表面的材料。湿法腐蚀一般只是用在尺寸较大的情况下（大于3微米）。湿法腐蚀仍然用来腐蚀硅片上某些层或用来去除干法刻蚀后的残留物。
光罩的制作过程1. 制作石英基板。空白基板通常为6英寸见方，厚度为0.25英寸。它由纯熔融石英制成，通常简称为石英。基板表面必须非常平坦且无缺陷。2. 沉积吸收层。在基板上是薄的吸收层，可以阻挡来自光刻机的曝光。3. 沉积光刻胶层。在吸收层的顶部是一层薄的光刻胶，暴露在光罩写入机（Mask Writer）之下。4. 写入。由光罩写入机完成，使用电子束曝光光刻胶，将芯片设计的图案数据呈现在光刻胶上。5. 烘烤。烘烤曝光的光刻胶，要求在光罩上的每个点都温度均匀。6. 显影。 使用显影剂使光刻胶的图像显影，光刻版，漂洗并干燥而不留下任何残留物。因为光刻胶图案在蚀刻工艺期间用作光罩，所以该显影步骤是关键的，因为显影中的任何不均匀性将导致终图案尺寸的不均匀性。7. 蚀刻。然后将显影的光罩放到到蚀刻机中，蚀刻机使用等离子体地蚀刻掉由写入和显影步骤带来的吸收剂材料。8. 剥离和清洁。将蚀刻好的光罩装入清洁机器中，清洁机器使用干等离子体或湿化学法剥离光刻胶。9. 测量。测量关键尺寸（CD）和图案精度，以确保它们符合客户规格。10. 检查。为了验证图案精度，将光掩模加载到Inspection机台中。如果发现缺陷，则对它们进行分类和必要的修复。 公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！菲林在使用中需注意的事项激光照排菲林中含有防光晕层，在定影、水洗的过程中有一些会脱落，在片基上形成淡蓝色的水斑，可在定影液中加入适量的坚膜剂消除。水洗槽要经常保持清洁，每天在工作结束后要将水槽中的水放掉，用干净的纱布擦干。每次加水之前要先将水放掉一些以除掉水锈，每周至少要坚持清洗水辊一次。 光刻板(多图)-浙江光刻版由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）在光电子、激光仪器这一领域倾注了诸多的热忱和热情，苏州制版一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创。相关业务欢迎垂询，联系人：马经理。 产品：苏州制版供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
