公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！写入Mask的时间跟精度要求相关，根据Tennant定律，单位面积上光罩的写入时间跟精度的五次方成正比。2010年之前，那时制程刚刚发展到45nm，一套光罩的写入时间在6小时之内。随着制程技术的发展，光刻版，自2011年起，光罩写入时间以每年25%递增，如今14nm光罩的写入时间就需要20小时，到了7nm甚至需要50小时以上。光罩写入时间长，产出慢，制约了光罩技术的发展，而打破写入时间这一瓶颈，需要Multi-Beam的新技术。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光刻工艺主要步骤准备基底在涂布光阻剂之前，先把硅片进行处理，经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分，并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物；涂布光阻剂(photo resist)将硅片放在一个平整的金属托盘上，托盘内有小孔与真空管相连，硅片被吸在托盘上，这样硅片就可以与托盘一起旋转；掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。 杭州光刻版-制版厂由苏州优版光电有限公司提供。苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com）是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的企业，多年来，公司贯彻执行科学管理、发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在苏州制版领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创苏州制版更加美好的未来。 产品：苏州制版供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
