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废气吸收塔HNO3废气处理工程设计方案内容如下：? ? ? 1.HNO3废气处理设备基本原理:? ? ? 2.HNO3废气处理设备主要处理的废气组成、排放量： 光催化废气净化器厂家介绍HNO3废气组成主要是氮氧化物，包括一氧化氮、二氧化氮、三氧化二氮、N2O4等。尾气中含氧量为3%，CO0.1%-0.15%，CO22.0%-3.0%、氮氧化物4000mL/m3，碱吸收塔后压头（尾气总管）1.8kPa，尾气温度为40-55度。? ? ? 3.HNO3废气处理设备及工程流程。? ? ? 4.HNO3废气处理设备的主要设备：尾气洗涤塔，催化炉，废热锅炉，旋风分离器，废热锅炉给水泵，循环机泵，填料，工艺管道，催化剂，土建。? ? ? 5.HNO3废气处理工艺控制条件：? ? ? 使用温度：常温-550度? ? ? 使用压力：不限? ? ? ?使用空速：3000-10000h-1，废气吸收塔规格，一般处于5000-6000h-1? ? ? 6.HNO3废气处理设备的处理效果： 光催化废气净化器厂家处理后，废气NOx浓度4000mL/m3降到179mL/m3，其中通过碱吸收后废气中NOx浓度降到600mL/m3? ? ? 7.HNO3废气处理催化剂技术指标。? ? ? 8.HNO3废气处理主要技术经济指标。废气吸收塔 半导体废气处理设备? ? ? ? ?废气介绍：由于半导体工艺对操作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和有毒废气。? ? ?? ?废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，化工废气吸收塔，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。? ? ? ? 废气处理设备处理方法：依据这些废气的特性，废气吸收塔说明书，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统。废气处理方式：低温等离子法、活性炭吸附法、光催化裂解法、生物分解法、燃烧法。1.低温等离子法：利用含高能量活性基团的等离子体分解废气分子，生成二氧化碳和水，废气吸收塔，从而达到净化废气的目的。2.活性炭吸附法：通过活性炭直接吸附有机气体。3.光催化裂解法：采用高能光波管与TIO2相互作用，在光波净化设备内，将污染物裂解，氧化。4.生物分解法：利用循环水流，将污染物溶于水中，再由水中培养的微生物降解为低害物质。5.燃烧法：通过焚烧炉，催化燃烧装置，高温燃烧去除废气中的有害物质。江苏山淼环境涂装喷漆有机废气处理。 废气吸收塔说明书-废气吸收塔-巩义市威邦机械，(查看)由巩义市威邦机械制造有限公司提供。行路致远，砥砺前行。巩义市威邦机械制造有限公司（www.gyweibang.com）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，与您一起飞跃，共同成功! 产品：威邦机械供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
