公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光罩（英文：Reticle，制版公司， Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型於晶圆上，制版价格，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像至相片上。
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（GDS格式）2） 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光（曝光波长405nm），制版，照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应3） 经过显影、定影后，曝光区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层4） 使用铬刻蚀液进行湿法刻蚀，将暴露出的铬层刻蚀掉形成透光区域，而受光刻胶保护的铬层不会被刻蚀，形成不透光区域。这样便在掩膜版上形成透光率不同的平面图形结构。5） 在有必要的情况下，使用湿法或干法方式去除掩膜版上的光刻胶层，制版哪家好，并对掩膜版进行清洗。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！掩模板是根据放大了的原图制备的带有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金属铬薄膜，通过类似照相制版的方法制备而成。具有微纳图形结构的掩模板通常使用电子束光刻机直接制备，其制作过程就是典型的光刻工艺过程，包括金属各层沉积、涂胶、电子束光刻、显影、铬层腐蚀及去胶等过程。 制版-光刻版-制版价格由苏州优版光电有限公司提供。“光电材料,光刻掩膜版”就选苏州优版光电有限公司（www.szphotomask.com），公司位于：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室，多年来，苏州制版坚持为客户提供好的服务，联系人：马经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。苏州制版期待成为您的长期合作伙伴！ 产品：苏州制版供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
