自动抛光加工的转动台结构设计自动抛光加工的转动台结构设计 纵向滑轨16及第三气缸19均安装于底座22上，机架1对应于底座22下方安装有两根相互平行的横向滑轨23，横向滑轨23沿平行于自动抛光布轮3轴线的方向延仲，底座22与横向滑轨16滑动连接，数控拉丝机，底座22上固定安装有第二传动螺母24，设于机架1上的轴向进给电机25的出轴上连接有横向丝杆26，横向丝杆26与底座22上的第二传动螺母24螺纹连接，轴向进给电机25驱动横向丝杆26转动，横向丝杆26通过与第二传动螺母24螺纹配合而致使底座22沿横向滑轨23滑动。
1、 总功率约6.73KW，主电机1.5KW（四级）*1，输送电机0.18KW*1，工件旋转/2、2、 机0.55KW，X轴1.5KW，Y轴0.75KW，Z轴1.5KW.3、 尺寸：1400*1200*2100（MM）（不带电箱）/4、4、 耗材规格为：长度2050宽30、长度2050宽20。5、 工件转速：0-144r/min6、 适用工件：直径80-600（MM）:，H2007、 ? 重量：1t封头拉丝机制药行业打磨、五金配件打磨、罐体抛光、卫浴配件抛光，不锈钢数控拉丝机，厨具抛光、餐具抛光等行业本机是针对各种炒锅、汤锅、封头、圆形、异形等工件研发设计的于内、外表面砂光处理，设备带有磨头恒压缓冲机构、X/Y/Z三轴联动机构，具有操作简单，运行稳定等特点，目前已获国内外一致好评目前抛光机是一实现单晶硅片全局平面化的技术设备，采用该方法可使整个硅片获得超光滑和无损伤的表面。其中，抛光液的质量是影响CMP效果的一个关键因素。? 目前，硅片CMP普遍使用粒径为50~70 nm的球形SiO2为磨粒。作为一种抛光粉，纳米CeO2已广泛应用于超大规模集成电路SiO2介质层和隔离沟槽的化学机械抛光，锌合金数控拉丝机，具有高抛光效率和高表面质量等优点。有研究表明，将球型纳米CeO2用于单晶硅片的化学机械抛光时，其抛光效率比球形SiO2高。?不过，平面抛光机纳米CeO2抛光硅片的研究还处在初始阶段，抛光液制备技术及相关抛光机理有待进一步完善。我国稀土资源居世界首位，如能开发出适于硅片抛光的纳米CeO2抛光液，全自动数控拉丝机，将会促进硅片超加工技术的发展，社会经济效益可观。由此可见稀土抛光粉在单晶硅片的抛光过程中有着重要的作用，对单晶硅片的平面抛光机市场也有着相当大的影响。单晶硅片的平面抛光机技术在行的应用前景非常大，发展还有很大空间。 数控拉丝机-不锈钢数控拉丝机-宝亿科技(诚信商家)由东莞市宝亿自动化科技有限公司提供。东莞市宝亿自动化科技有限公司是广东 东莞 ,机械及工业制品项目合作的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在宝亿科技领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创宝亿科技更加美好的未来。 产品：宝亿科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
