光学镀膜机对于单片膜色不均匀产生的原因光学镀膜机对于单片膜色不均匀产生的原因光学镀膜机主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。另外镜片被镜圈()边缘部遮挡、镜圈()脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。改善对策：㈠ 条件许可，用行星夹具;㈡ 选用伞片平坦(R大)的机台;㈢ 根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。㈣ 如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。㈤ 改善镜圈()，防止遮挡。㈥ 注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡㈦ 清洁镜圈()㈧ 改善膜料蒸发状况。 真空镀膜机中钨丝的用途真空镀膜机中钨丝的用途：钨丝是真空镀膜机中不可或缺的材料，下面为大家讲一下这种材料的使用用途。钨丝除少量用作高温炉的发热材料、电子管的热子和复合材料的加强筋等外，绝大部分都用于制作各种白钨丝炽灯和卤钨灯的灯丝以及气体放电灯的电极。对用作气体放电灯阴极的钨丝或钨杆，为降低其电子逸出功，须加入0.5～3％的钍，称为钨钍丝。由于钍是一种性元素，污染环境，故有用来代替钍作成钨丝或钨杆的。但的蒸发率高，所以钨丝或钨杆只能用于小功率的气体放电灯。常用的两种镀膜方法 1，真空蒸发镀膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸发结晶于镜片表面的方式。离子辅助镀膜是指蒸发过程中，微粒离子化，增加均匀性和附着力和氧化程度的方法。2，溅射式镀膜，是利用高电压电离某些气体，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到达一定程度喷射出来的镀膜方式。离子溅射镀膜是指在溅射能量来源为离子，并且微粒飞翔过程中有明显离子状态，并使用磁场控制其飞翔轨迹的镀膜方式。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
