磁控溅射镀膜生产线系统设计系统设计的特点1、生产线采用PLC全过程控制，并配有彩色显示屏，显示镀膜工艺过程参数等；2、实时动画形式显示监控磁控镀膜生产线的工艺流程。磁控镀膜生产线的设备是密封的，生产时看不见玻璃在真空室里面的运行情况，通过通用组态式监控系统形象的动画功能来实时反应玻璃在密封真空室里的运行情况，让现场操作工对整个生产流程了若指掌。3、系统功能丰富：包括手/自动模式选择、工艺方案选择、数据检测记录、故障报警记录、自动诊断保护、操作权限限定等等。系统组成结构图上位监控系统采用的是通用组态式监控系统，其与下位控制系统的三菱FX2NPLC通信方式采用RS-232串行通讯方式。LG变频器及真空泵、抽气阀等都是由三菱FX2N-PLC来控制，而PLC通过一个扩展的232BD模块与计算机相连。软件系统完成的主要功能1、以实时动画形式监控磁控镀膜生产线的工艺流程，监控电机、真空泵、抽气阀等部件的运行状态；2、记录设备运行过程中产生的实时报警信息；3、PLC输入、输出点实时监控。总结该系统现场运行情况良好，数据读写速率快，报警功能、设备动作控制等各项功能均达到设计要求，且、准确无误，主画面上的动画过程与现场的生产流程配合较好，使用该系统可以非常方便的监控整条生产线的运行。“操作简单，画面精美，软件与设备的通讯性能优越，大大提升系统形象”通用组态式监控系统软件突出性能给予的评价。 镀膜设备的镀膜方式及常会遇到的问题镀膜设备就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽的设备。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀(1)镀膜设备的特点：成膜速度快0.1-50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。(2)缺点：薄膜附着力较小，结晶不够完善，工艺重复性不够好。镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?一。产品表面洁净度不够，离子源清洗Ar气放大时间长点。二。清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。三。工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。真空镀膜过程的均匀性到底多重要？真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。薄膜均匀性的概念：1、厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。2、化学组分上的均匀性：就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。3、晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。主要分类有两个大种类：一、对于蒸发镀膜：一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度；2、基片表面温度；3、蒸发功率，速率；4、真空度；5、镀膜时间，厚度大小。组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率.</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
