真空镀膜技术优点清洗过程简化：现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。可镀材料广泛：离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。 电子束光学镀膜机有哪些特点 在玻璃/PMMA/PC基片上形成光学多层薄膜的精密真空镀膜机。将满足客户需求的多种元件组合在一起，可以形成更加优良的薄膜。基片伞架采用了每分钟可转60转的中心旋转方式(公转)，减少产生振动和颗粒，使基片能够稳定旋转。采用坩埚上没有极片的电子束加热方式(2台电子，10kW型)作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜。采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成且稳定的光学多层膜。可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。电子束蒸发的优点在于：电子束的光斑可以随意调整，可以一多用，灯丝可以隐藏，避免污染，可以蒸发任意镀膜材料，维修方便，蒸发速度可以随意控制，材料分解小，膜密度高。机械强度好。溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子（原子）有足够的能量从靶材表面逸出，在产品表面凝聚形成薄膜。用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子一样节约资源。目前运用多的有磁控溅射，磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场，将电子约束在阴极靶材表面附近，提高电离效率。它是操作简单的一种，所以运用非常广。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
