铝化学抛光技术
一、对铝制品表面进行机械抛光：bbs.cnal.com5z4n6T#]:N8p，化学抛光剂，F3^
1、机械抛光工序为：粗磨、细磨、抛光、抛亮、喷砂、刷光或滚光等，根据制表面的粗糙程度来适当采取不同的工序。二、化学除油除膜：6z，R1d3w;%R1w
化学除油除膜过程是借着化学反应和物理化学作用，除去制件表面的油污和自然氧化膜。化学除油除膜一般采用酸性除油除膜剂AC。:b#^#﹨4;b7s2使用条件：
1、浓度：2-7%6d2X)r*MG8M
2、工艺条件：温度：20-30℃时间：2-10min酸洗液的配方：铝业论坛$V:n'e'^2h8L8N3c
浓硝液200~270ML/L铝业论坛;j'{&[%X-b5d
温度：室温时间：1-3min
除去含合金制件表面氧化膜和硅浮灰的酸洗液配方：9R9F9G9r8~9P'i
浓3体积；浓1体积。温度：室温时间：5-15min:r7T0_-a+m1H0u
铝及铝合金制件经化学酸洗后，必须立即用流动温水和冷水清洗，以除去残酸，然后浸入水中，以备化学抛光。
抛光就是对工件表面进行加工，使其高度光洁。一般用附有细磨粉的软质轮子高速旋转来擦拭工作。此外还有液体抛光、电解抛光等方法。简单说抛光剂就是使物件表面光亮的试剂。抛光后的产品亮度均匀一致，且本药剂的处理温度为中温，化学抛光剂销售，无需加过高的温度。抛光剂（俗称：光亮剂）：淡黄色或黄色透明液体制剂。根据市场需求不断演化出针对不同材质的制剂（大至有不锈钢抛光剂、镁合金抛光剂、铜抛光剂、铝合金抛光剂、玻璃抛光粉、钻研抛光粉等）。 [1] 用 途：适合各种不锈钢或金属制品抛光。性 状：液体产品。工艺条件：抛光机配套使用腐 蚀 性：对不锈钢无腐蚀，保持金属表面光亮度，不变色，刺。毒 性：无毒，不污染环境。配 比：1:5~10(以能润湿工件为准)温 度：常温使用
CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术是用于获取高质量的玻璃表面，如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，化学抛光剂生产商，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，化学抛光剂哪家好，CMP通过化学的和机械的综合作用，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。
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