化学气相沉积的原理沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售化学气相沉积，气相化学沉积设备价格，我们为您分析该产品的以下信息。化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上产生化学反应和传输反应等并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步：（1）形成挥发性物质 ；（2）把上述物质转移至沉积区域 ；（3）在固体上产生化学反应并产生固态物质 。基本的化学气相沉积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。 ICP刻蚀机的操作及判断1. 确认万用表工作正常，量程置于200mV。2.冷探针连接电压表的正电极，热探针与电压表的负极相连。3.用冷、热探针接触硅片一个边沿不相连的两个点，电压表显示这两点间的电压为正值，说明导电类型为P 型，刻蚀合格。相同的方法检测另外三个边沿的导电类型是否为P型。4.如果经过检验，任何一个边沿没有刻蚀合格，则这一批硅片需要重新装片，进行刻蚀。沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ，服务至上为宗旨。公司生产、销售ICP刻蚀机，公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！方箱PECVD简介该系统为单室薄膜太阳电池等离子增强化学气相沉积（PECVD）工艺研发设备，用来在硅片上沉积SiOx、SiNx、非晶硅、多晶硅、碳材料等薄膜，镀膜样品为156×156mm基片（并向下兼容）。设备概述：1.系统采用单室方箱式结构，手动前开门；2.真空室:尺寸为350mm×350×280mm；3.极限真空度：≤6.67x10-4 Pa (经烘烤除气后，采用分子泵抽气)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系统从大气开始抽气到5.0x10-3 Pa，35分钟可达到（采用分子泵抽气，分子泵不配，预留分子泵接口)； 停泵关机12小时后真空度：≤5 Pa（采用分子泵抽气，气相化学沉积设备哪家好，分子泵不配，预留分子泵接口)；4.采用样品在下，喷淋头在上喷淋式进气方式；5.样品加热加热温度：300℃，温控精度：±1°C，采用日本进口控温表进行控温；6.喷淋头尺寸：200×200mm，喷淋头与样品之间电极间距20-80mm连续可调；7. 沉积工作真空：13-1300Pa；8.气路设有匀气系统，气相化学沉积设备，真空室内设有保证抽气均匀性抽气装置；9.射频电源：频率 13.56MHz，功率500W，全自动匹配；10.SiH4、NH3、CO2、N2、H2、PH3、B2H6、七路气体，共计使用7个质量流量控制器控制进气。11. 系统设有尾气处理系统(高温裂解方式)。以上就是关于方箱PECVD镀膜产品的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司！ 沈阳鹏程(图)-气相化学沉积设备价格-气相化学沉积设备由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程(图)-气相化学沉积设备价格-气相化学沉积设备是沈阳鹏程真空技术有限责任公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：董顺。 产品：沈阳鹏程供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
