脉冲激光沉积的应用领域沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，以下信息由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供。脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。应用领域：单晶薄膜外延（SrTiO3，LaAlO3）压电薄膜（PZT，AlN，BiFeO3，BaTiO3）铁电薄膜（BaTiO3，KH2PO4）热电薄膜（SrTiO3）金属和化合物薄膜电极（Ti，Ag，Au，Pt，Ni，Co，SrRuO3，LaNiO3，YZrO2，GdCeO2，LaSrCoFeO3）半导体薄膜（Zn(Mg)O，AlN，SrTiO3）高K介质薄膜（HfO2，CeO2，Al2O3，BaTiO3，脉冲激光沉积设备，SrTiO3，PbZrTiO3，LaAlO3，脉冲激光沉积设备报价，Ta2O5）超导薄膜（YBa2CuO7-x，BiSrCaCuO）光波导，光学薄膜（PZT，AlN，BaTiO3，Al2O3，ZrO2，TiO2）超疏水薄膜（PTFE）红外探测薄膜（V2O5，PZT） PLD450型脉冲激光镀膜介绍以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。技术指标：极限真空度：≤6.7×10 Pa 恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 真空室：Ф450球型真空室 ， 基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。 二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，脉冲激光沉积设备厂家，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，质量流量控制器1路 烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）脉冲激光沉积的原理脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，脉冲激光沉积设备哪家好，硫化物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。以上就是关于脉冲激光沉积的相关内容介绍，如有需求，欢迎拨打图片上的热线电话！ 脉冲激光沉积设备报价-沈阳鹏程-脉冲激光沉积设备由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支高素质的员工队伍，力求提供更好的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。沈阳鹏程——您可信赖的朋友，公司地址：沈阳市沈河区凌云街35号，联系人：董顺。 产品：沈阳鹏程供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
