金属带镀膜设备HCMRC系列采用模块化设计，是用于薄膜镀膜的灵活生产工具。通过我们各种技术的组合，可以生产高反射膜、高吸收膜和装饰性镀膜。此外，为了更广泛的应用，我们还可以沉积防触摸膜层或者防腐膜层。不锈钢带卷绕镀膜设备采用公司新开发的磁控溅射镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术及设计的离子源辅助沉积镀膜技术等多种技术组合，成功应用在大卷径宽幅高真空连续卷绕镀膜设备中，可正反面镀制装饰性膜层和防腐蚀膜层，改善金属卷材表面特性，扩展应用范围。模块化设计概念，带材纠偏系统、等离子体预处理、磁控溅射系统、在线测量和工艺控制系统、电子束蒸发灵活组合。膜层均匀性好，沉积，镀膜速度快，是大型不锈钢卷连续镀膜生产线的良好选择。 真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别： 蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。真空镀膜机设备溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。切削工具真空镀膜机 切削工具真空镀膜机可以提高工具的切削速度和给刀量，降低加工的时间和成本，更长的使用寿命降低了工具更换的成本，涂层具备的热稳定性、热硬度和能力、低摩擦系数和低粘附倾向。真空镀室的真空密封和室内运动部件的设计和用材，充分考虑可承受高温，配置多只园形电弧蒸发源，或配多个矩形平面电弧蒸发源，也可配多只空心阴极，同时配置耐冲击的、具有优异灭闪弧性能的偏压电源，保证足够等离子体密度和反应活性，提高膜层致密性和结合力。工件可三维运动，提高膜层均匀性。全自动控制提高工艺稳定性。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
