脉冲激光沉积系统的配置介绍沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售脉冲激光沉积，我们为您分析该产品的以下信息。1.靶: 数量6个，激光脉冲沉积装置厂家，大小1-2英寸，被激光照射时可自动旋转，靶的选择可通过步进电机控制;2.基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，激光脉冲沉积装置，加热温度可达1200摄氏度，温度差<3%，加热时基板可旋转，工作环境的压力可达300mtorr;3.基板加热电源，高到1200度;4.超高真空成膜室腔体:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-8 pa;5.样品搬运室:不锈钢sus304材质，内表面电解抛光，本底真空度<5e-5 pa;6.排气系统:分子泵和干式机械泵;7.阀门: 采用超高真空挡板阀;8.真空检测:真空计;9.气路两套: 采用气体流量计控制;10.薄膜生长监控系统: 采用扫描型差分RHEED;11.监控系统:基板温度的监控和设定，基板和靶的旋转，激光脉冲沉积装置多少钱，靶的更换等;12.各种电流导入及测温端子;13.其它各种构造:各种超高真空位移台，磁力传输杆，超高真空法兰，超高真空密封垫圈，超高真空用波纹管等; 脉冲激光沉积系统配置介绍想要了解更多脉冲激光沉积的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。脉冲激光沉积系统配置：生长室，进样室可选水平、垂直两种靶台可选激光加热和辐射加热两种样品台可选，激光加热高的温度1200℃工艺气路可以任意搭配配备高压RHEED，工作气压可达100Pa可预留法兰，用于LEED，K-Cell， E-beam等其它可选项如臭氧发生器，离子源，掩膜系统等。脉冲激光沉积原理以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享脉冲激光沉积的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助。想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站！脉冲激光沉积原理：在真空环境下利用脉冲激光对靶材表面进行轰击，激光脉冲沉积装置报价，利用激光产生的局域热量将靶材物质轰击出来，再沉积在不同的衬底上，从而形成薄膜。 激光脉冲沉积装置报价-沈阳鹏程真空技术公司-激光脉冲沉积装置由沈阳鹏程真空技术有限责任公司提供。沈阳鹏程真空技术有限责任公司在成型设备这一领域倾注了诸多的热忱和热情，沈阳鹏程一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以、服务来赢得市场，衷心希望能与社会各界合作，共创成功，共创。相关业务欢迎垂询，联系人：董顺。 产品：沈阳鹏程供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
