真空镀膜设备镁铝合金镀膜的性质真空镀膜设备应用范围 真空镀膜设备镁和镁的合金的低密度使其比性能提高。例如20o时的弹性模量为45Gpa,比铝(70Gpa)和Ti(120Gpa)的低。镁和镁合金质量小的特点使其在交通运输、航空I业和航天I业上具有巨大的应用前景。真空镀膜设备在空气气中镁 会慢慢氧化，失去银白光泽而变黑。若温度提高至400C以上,镁的氧化速度增快，超过500°C以后氧化速度更快，会着火燃烧,此时会生成氧化镁和少量。镁燃烧时会发出非常强烈的光亮,颇受人们的青睐。早期就被利用于摄影照明，给人们留下美好的形象和记忆。利用这一特点 ,人们制作成的各种形色的在夜空飞舞,给人们带来极大的欢乐。由于化学活泼性高,金属镁是耐腐蚀性能差的金属之一。 各种类型大气均会对镁产 生程度不同的腐蚀作用。在干燥的空气中,它的表面上形成一层暗淡的的疏松多孔氧化膜,在潮湿大气中,生成的产物组成大致为Mgco3:3H2O+Mgso4 7H2o+Mg(OH)2。大气湿度增加工业地区和海洋环境的大气中所含的和氢化物等物质能加重镁的腐蚀。镁中氯化物杂质及铁杂质也会加速镁的腐蚀。因此,工业生产的镁锭必须镀膜钝化。 真空卷绕镀膜机 的卷绕系统采用四电机驱动，恒张力控制，可实现距离卷绕和接触卷绕两种卷绕方式。提供了多种不同的卷绕方式，以适用于所镀制的薄膜种类和工艺要求。在卷绕系统中设置了适用于CPP、PET、OPP等多种塑料薄膜特殊的展平装置，能达到无褶皱、无划伤、无边缘积聚的优良蒸镀和收卷质量。强劲实用的抽真空系统相对独立的卷绕室和蒸发室，每一个室都有一套独立的真空泵组与其对应。能在很短的时间内达到镀膜所需的工作真空度，使设备的生产率得到很大地提高。蒸发源系统通过严密的计算采取恰当的蒸发距离和舟间距，采取交错安装的排布形式，使用两端顶持的舟安装方式保证了良好的蒸镀均匀性的成膜质量。可以使用普通蒸发速率的陶瓷蒸发舟，也可以使用高蒸发率的蒸发舟。其功率可达14KVA，蒸发速率可达9克/分钟。冷却加热系统：蒸镀辊配制有独立的冷却加热系统，采用特殊的油导热介质，能有效的冷却蒸镀辊，防止薄膜热损伤。等离子预处理装置：在镀前对薄膜表面进行离子轰击处理，除去薄膜表面吸附的水气及杂质，提高附着力，改善镀膜质量。简单便捷的控制系统：便捷的全自动控制系统和友好的操作界面，可根据需要分别采用手动、半自动以及自动方式。真空镀膜设备我们可能见到的有很多，如真空镀膜机等等，这里为大家介绍一种概述电磁屏蔽膜真空镀膜设备，具体如下：电磁屏蔽膜真空镀膜设备是在手机、笔记本电脑、电话机、DVD等电子产品塑胶外壳表面上镀制电磁屏蔽（EMI）薄膜的设备。该设备利用等离子体表面处理技术，并采用真空蒸发和磁控溅射镀膜工艺相结合，以真空蒸发镀Ag、Cu，以磁控溅射镀Ni/Cr不锈钢，可实现不同电阻要求的EMI镀膜。电磁屏蔽（EMI）膜真空镀膜设备特点及基本参数：1.有卧式、立式结构，可实现单面同时镀膜；2.生产效率,度达1分钟/节拍；3.模组化设，维护方便；4.镀膜工艺成熟，成品率高；5.直流磁控溅射阴极可随客户要求选择；6.真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成；7.大尺寸；2200mm*1200mm(长*宽)；8.小尺寸；500mm*400mm(长*宽)。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
