真空镀膜设备的正常工作条件1.环境温度：10~30℃2.相对湿度：不大于70%3.冷却水进水温度：不高于25℃4.冷却水质：城市自来水或质量相当的水5.供电电压：380V，三相50Hz或220V，单相50Hz，电压波动范围342~399V或198V~231V，频率波动范围49~51Hz；6.设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。7.设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。 四种常见的真空镀膜材料1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，等真空镀膜材料。4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。氧化物怎么镀膜？氧化物镀膜过程是很复杂的，但其主要影响因素就是镀膜原料成膜的时候凝聚力、镀膜与基材的吸附力及基材温度，而三者之间又相互关联约束。那氧化物的镀膜到底是怎么个过程呢？下面我们就来听听真空镀膜设备至成真空科技的讲解！从蒸发源射出的蒸汽流脱离蒸镀原料表面的时候温度很高，能量也比较高，在上升通过蒸发区到达基材表面的过程中，由于碰撞、运动中的能量交换导致动能下降，到达基材表面的粒子很快与基材交换能量，迅速沉积在其表面。在镀膜工艺中，离子轰击改善基材的表面，在蒸发区建立等离子气体以提高气化微粒功能等辅助手段，较好地解决了镀膜与基材结合牢固度的问题。其实在众多的镀膜工艺里，氧化物镀膜工艺和程序是有非常大的难度的，因为它面临着很多因素影响，环境和材料等等，但是氧化物的镀膜工艺却是受到广大的企业生产的亲睐。所以这种镀膜工艺和设备的发展趋势会越来越好！</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
