真空镀膜机蒸发与磁控溅射镀铝性能严格控制发Al膜的厚度是十分重要的，因为Al膜的厚度将直接影响Al膜的其它性能，从而影响半导体器件的可靠性。对于高反压功率管来说，它的工作电压高，电流大，没有一定厚度的金属膜会造成成单位面积Al膜上电流密度过高，易烧毁。对于一般的半导体器件，Al层偏薄，则膜的连续性较差，呈岛状或网状结构，引起压焊引线困难，造成不易压焊或压焊不牢，从而影响成品率;Al层过厚，引起光刻时图形看不清，造成腐蚀困难而且易产生边缘腐蚀和“连条”现象。采用真空镀膜机电子束蒸发，行星机构在沉积薄膜时均匀转动，各个基片在沉积Al膜时的几率均等;行星机构的聚焦点在坩埚蒸发源处，各个基片在一定真空度下沉积速率几乎相等。采用真空镀膜机磁控溅射镀膜方法，由于沉积电流和靶电压可以控制，也即是溅射功率可以调节并控制，因此膜厚的可控性和重复性较好，并且可在较大表面上获得厚度均匀的膜层。 真空镀膜设备镁铝合金镀膜的性质真空镀膜设备应用范围 真空镀膜设备镁和镁的合金的低密度使其比性能提高。例如20o时的弹性模量为45Gpa,比铝(70Gpa)和Ti(120Gpa)的低。镁和镁合金质量小的特点使其在交通运输、航空I业和航天I业上具有巨大的应用前景。真空镀膜设备在空气气中镁 会慢慢氧化，失去银白光泽而变黑。若温度提高至400C以上,镁的氧化速度增快，超过500°C以后氧化速度更快，会着火燃烧,此时会生成氧化镁和少量。镁燃烧时会发出非常强烈的光亮,颇受人们的青睐。早期就被利用于摄影照明，给人们留下美好的形象和记忆。利用这一特点 ,人们制作成的各种形色的在夜空飞舞,给人们带来极大的欢乐。由于化学活泼性高,金属镁是耐腐蚀性能差的金属之一。 各种类型大气均会对镁产 生程度不同的腐蚀作用。在干燥的空气中,它的表面上形成一层暗淡的的疏松多孔氧化膜,在潮湿大气中,生成的产物组成大致为Mgco3:3H2O+Mgso4 7H2o+Mg(OH)2。大气湿度增加工业地区和海洋环境的大气中所含的和氢化物等物质能加重镁的腐蚀。镁中氯化物杂质及铁杂质也会加速镁的腐蚀。因此,工业生产的镁锭必须镀膜钝化。性能高的节能玻璃需要通过真空磁控溅射工艺在玻璃表面依次镀上厚度为纳米级的10多层金属和非金属薄膜，使玻璃对光谱具有选择性透过功能，能透过大部分可见光，不影响采光，又能阻挡红外、远红外、紫外光，阻断热辐射，生产技术极为复杂。真空镀膜技术和以此为基础的镀膜设备制造业长期被国外公司垄断，单条生产线的技术引进和设备进口费用高达1.5亿元。采用这一工艺生产的产品不仅克服了目前低辐射镀膜玻璃普遍存在的膜层易脱落、易氧化、不能热加工等不足，而且具有可钢化，镀层暴露在大气中3个月以上不氧化、可异地加工等优异性能。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
