真空镀膜机磁控溅射主要工艺流程：1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，随后用乙醇浸泡基片后烘干，以去除表面油污；2、抽真空，真空须控制在2×104Pa以上，以保证薄膜的纯度；3、加热，为了除去基片表面水分，提高膜与基片的结合力，需要对基片进行加热，温度一般选择在150℃~200℃之间；4、Ar气分压，一般选择在0.01~1Pa范围内，以满足辉光放电的气压条件；5、预溅射，预溅射是通过离子轰击以除去靶材表面氧化膜，以免影响薄膜质量；6、溅射，Ar气电离后形成的正离子在正交的磁场和电场的作用下，高速轰击靶材，使溅射出的靶材粒子到达基片表面沉积成膜；7、退火，薄膜与基片的热膨胀系数有差异，结合力小，退火时薄膜与基片原子相互扩散可以有效提高粘着力。真空镀膜机磁控溅射镀膜的特点：薄膜纯度高，致密，厚度均匀可控制，工艺重复性比较好，附着力强。依据溅射源的不同，真空镀膜机磁控溅射有直流和射频之分，两者的主要区别在于气体放电方式不同，真空镀膜机射频磁控溅射利用的是射频放电，陶瓷产品使用的是射频磁控溅射镀。 双色真空镀膜机PVD技术的应用范围及优缺点很多人对真空镀膜机PVD技术的了解不是特别全，也不知道具体是应用到哪些行业，以及它在实际运用过程有哪些优缺点?至成真空小编现在详细和大家介绍一下:真空镀膜机PVD技术其应用范围是：1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；2）金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。真空镀膜机PVD技术其优点是:与传统磁控溅射单色PVD技术相比，双色PVD工艺更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高，但外观效果，两种颜色的表面硬度都在HV600以上。传统磁控溅射单色PVD技术要在实现双色效果，采取的工艺措施是在整体PVD单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。新加工出来的区域就只能表现金属的本色，表面硬度也就是金属本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度为HV600以上）。真空镀膜机镀膜的塑料材料如何挑选真空镀膜机技术的不断发展，使很多原来不能镀膜的材料也得以实现镀膜，但仍有一部分材料并未研发出解决方案，但我非常期待，因为科技是无穷的，很多以前不敢想象的技术，现在都实现了，将来必须会出现新的一页。对于真空镀膜机的技术，塑料也是可以镀膜的了，这是一种技术性的发展，但不是所有的塑料都可以用真空镀膜机进行镀膜的，因为塑料本身所带有的某些特性是目前的镀膜技术仍未可解决的。那么什么样的塑料才能用真空镀膜机镀膜呢，归纳起来，可以分三点来挑选。首先，塑料本身和所镀膜层之间要有一定的亲和力，只有膜层与工件紧密的结合在一起，才能不易脱落，寿命长久，有些塑料没办法和腊层很好的结合在一起，研究人员发现在塑料表面先涂上一层便于膜层紧密结合的涂料，这样就解决了附着力的问题，但这种涂料在与膜层能加强结合外，现时也要和塑料加强结合，同时满足这两种条件的涂料也不是说那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相应的涂料，但有部分塑料始终还未找到，而这些塑料就不能用真空镀膜机镀膜了。其次，塑料本身必定会含有一些挥发性的杂质，随着温度的上涨，会挥发逸出，但作为可以镀膜的工件，所能忍受的挥发物质是有限的，所以在挑选塑料材料作真空镀膜时，要选择放气量少的，这样对于真空镀膜机运作时的真空度影响也可以采取措施使其受到控制，如果大量的话就会控制不到而使真空度下降，影响镀膜质量。后就是塑料受热的稳定性，塑料受到广泛使用就是因为其可以在加温的状态下按照设计者的意愿塑造出想要的形象，这就是受热变形，但在真空镀膜机的镀膜时的环境下，必定产生一定的温度，如果塑料受热不稳定就会变形，即使镀的膜层再好，工件已经变形，又有什么用呢，所以对于塑料材料的镀膜，都会使用产生的热量工件熔点的真空镀膜机，但有些塑料熔点实在在低的，目前的技术仍未解决，所以这些塑料都不适合真空镀膜机的镀膜。</p 产品：至成真空科技供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
