多晶金刚石抛光液多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。氧化硅抛光液氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

化学抛光的优缺点:
1:优点: 操作简便、,无需仪器。抛光后试样表面无变形层,可抛光经镶嵌后的试样,也可同时抛光试样的纵、横断面。化学抛光时兼有化学侵蚀作用,因此多数情况下能同时显示组织,抛光结束之后可以观察组织,不需再做侵蚀显示。
2:缺点:抛光液容易失效,溶液消耗快。抛光结果不是太佳,试样的棱角易受蚀损,抛光面易出现微小波纹起伏,高倍观察时受到影响

铝合金产品传统的三酸抛光的化学工艺配方为:磷酸80%,硫酸10%,10%。目前磷酸的价格为5400元/吨,硫酸700元/吨,2300元/吨(以上价格仅作为参考)。那么我们传统的配方成本为:磷酸800ml*1.70*5.40=7.344元,硫酸100ml*1.84*0.7=0.13元,100ml*1.40*2.30=0.32元,那么一升抛光液合计的成本为7.8元。目前我公司研制成功的OY系列铝处理化学抛光工艺,磷酸为500ml/l,硫酸500ml/l,光亮剂20ml/l,六安化学抛光, 成本核算为:500ml*1.70*5.40=4.59元;硫酸500*1.84*0.7=0.644;光亮剂计0.65元,合计5.85元。因此,我公司OY系列铝处理工艺,成本足足下降了20%。而且OY系列产品在处理铝的时候,化学抛光厂家,无任何黄烟,大大的改善了生产环境;处理成品率可以在到98%以上,几乎无因为抛光而造成的报废品;光亮度好,与三酸处理无异;维护管理容易,溶液性能稳定。因此,我公司极力推荐使用本产品。

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