PVD镀膜的具体原理是什么？
答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。
PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？
答: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
金属真空镀膜底涂处于基材和真空镀层之间，其作用主要有：
（1）通过底涂封闭基材，防止真空镀膜时基材中的挥发性杂质逸出，影响镀膜质量;
（2）塑料表面较粗糙，底涂预处理后，金属真空镀膜厂家，可通过涂层获得光滑平整的镜面效果;
（3）在薄膜材料上预涂底漆可进一步加强薄膜的阻隔性;
（4）预涂底漆有利于获得更厚的真空镀层，展现出更高的反射效果和力学性能;
（5）某些表面极性较低的基材如PP等与镀层的附着力较差，通过底漆可获得较好的镀层附着性;
（6）对某些耐热性较差的塑料基材，金属真空镀膜加工厂家，底涂可以起到一定的热缓冲作用，保护基材免遭热致形变。
真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，惠州金属真空镀膜，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。金属真空镀膜
真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
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