在形成金属晶体时又可分为同时进行的俩个过程，结晶晶核的生长和成长过程。这俩个过程的速度决定着金属结晶的粗细程度。如果晶核的生成速度较快，而晶粒生成后的成长速度较慢，则生成的晶核数目较多，晶粒较细。反之晶粒就较粗，也就是说，在电镀过程中当晶核的生成速度大于晶核的成长速度时，就能获得结晶细致，排列紧密的镀层，东莞真空电镀，晶核的生成速度大于晶核成长速度的程度越大，镀层结晶越细致，紧密。
结晶组织较细的镀层，其防护性能和外观质量都较理想。实践表明，提高金属结晶时的阴极化作用超过一定的范围，会导致氢气的大量析出，从而使镀层变得多孔，粗糙，疏松，东莞真空电镀厂，烧焦，东莞真空电镀加工，甚至是粉末状的，质量反而下降
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等)，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低( 10-5Pa )。 镀层厚度0.04-0.1um太薄，反射率低;太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%
一般PVD真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆，再做电镀.由于素材是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分.另外，真空电镀，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况.喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现.
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