上述四种都属于物理气相沉积技术应用（PVD）。
接下来是化学气相沉积（CVD）。它是以化学反应的方式制作薄膜，原理是一定温度下，玻璃真空镀膜工厂，将含有制膜材料的反应气体通到基片上并被吸附，玻璃真空镀膜价格，在基片上产生化学反应形成核，麻涌玻璃真空镀膜，随后反应生成物脱离基片表面不断扩散形成薄膜。
束流沉积镀，玻璃真空镀膜加工，结合了离子注入与气相沉积镀膜技术的离子表面复合处理技术，是一种利用离化的粒子作为蒸镀材料，在比较低的基片温度下，形成具有良好特性薄膜的技术。
真空电镀将室内空气抽走，达到一定的真空度后，真空电镀将室内的钨丝通电加热。当达到一定的温度后，真空电镀钨丝上所放置的金属丝气化，然后随着室内的工件的转动均匀的沉积在工件表面，真空电镀形成金属膜。一般常见的真空电镀用金属有铝、镍、铜等等。真空电镀但由于熔点，工艺控制等方面的原因，镀铝成为流行的做法。
真空电镀为了在五金系列产品的零部件的表面上得到附着良好的表面处理后，真空电镀前的预处理必须要严格、认真地操作，以便达到预处理的标准。真空电镀中间除油，真空电镀这个工艺流程就是碱液脱脂可以用浸泡法或喷射清洗的方法来完成。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。
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