洁净室中的温湿度控制
洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。
直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，黄山净化工程，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。
传统初中过滤的净化方式机组只能做到过滤和交换新风，恒效运行净化机组可以将自动除尘技术提升到将尘埃收集到容器，废物回收利用;可以净化空气中气态有机污染物、祛除异味;可以做到增氧补氧、解决车间的“闷罐”现象。并可将单一的净化机组扩展为恒温：同净化系统使用同一管道，相互独立开启;恒湿：通过湿度传感器自动起关恒湿装置，净化工程设计，湿度低时自动加湿，化妆品净化工程，高时自动抽湿，达设定湿度参数;机组内预留扩展及升级模块，不但可杀灭现有病菌病毒，对不能杀灭的新型病毒可通过升级完成，净化工程安装，生物安全隔离，关键是可以将全部的功能模块放在一个系统，达到客户所要求的标准。
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