EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？
EDI超纯水技术受欢迎的原因是什么？与传统混床技术相比，EDI超纯水技术工艺摒弃伴生废酸、废碱污染的传统离子交换技术，具有无化学污染、连续再生、启动操作简单、模块更换方便、产水纯度高、回收率高、占地面积小、微生物污染风险低等优点。这对保护环境和节约能源非常有益。同时，EDI超纯水技术树脂消耗量仅为传统混床的5%，具有较高的成本效益。由于溶解在水中的大多数气体(如二氧化碳)都呈弱电性，EDI可以有效地去除它们。EDI超纯水技术结合了电渗析技术和离子交换技术。通过阴阳离子交换膜的选择性渗透和离子交换树脂的交换
EDI设备的优点：
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，天津纯水设备，重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括细菌，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。
导致超纯水水质恶化的原因有哪些？1、存储 储存：由于超纯水中溶解离子的浓度很低甚至不存在，半导体纯水设备，超纯水很容易从外部环境中吸收离子污染物。由低级塑料和玻璃制成的储水器将溶解离子和有机物，增加水的电导率，EDI纯水设备，降低水质。因此，电子超纯水设备，建议使用溶解性低的高等级聚乙烯储水器。 2、通气口 通气口：大多数储水器都有一个排气口，用于取水期间的空气循环。当通气口吸入外部空气时，会将空气中的CO2、细菌、颗粒和挥发性有机化合物一并吸入。这些会污染储水器中超纯水。因此，通气口应配备空气过滤器，以防止有机物、细菌和CO2进入储水器。
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