SU-8光刻胶模具开发显影是在溶剂中稀释未连接的 SU-8 光刻胶的步骤。在这一步，设计在基板上显露出来。SU-8 的开发要归功于 SU-8 开发人员。它是Microchem的产品，主要由PGMEA（bing二醇单jia醚乙suan酯）组成，但由于乳酸乙酯或二bing酮醇，您也可以开发SU-8。将您的晶圆放入装有 50mL 显影液的结晶器中。SU-8 开发的时间取决于 1 分钟到 15 分钟以上的层厚度。在开发过程中保持良好的搅拌，以达到zui佳的开发效果。用异bing醇冲洗晶圆。如果仍有一些白色痕迹，请在 1-2 分钟内再次显影。如果再次残留，则更换溶液并使用 50mL 新显影剂 1-2 分钟。擦干的晶圆。 外观结构1、具有一定透明度，可透光检查模具效果及内部结构；2、外形可与硅片类似，成圆形，上下平整，有切边。模具优点1、不用做疏水处理，脱模简单2、不易碎裂3、表面易清洁，可重复使用顶旭微控提供PDMS芯片模具定制加工服务，SU8模具，可提供纯硅模具，SU8模具，亚克力模具，树脂模具。纯硅模具，深刻比大，精度高；SU8模具，采用光刻工艺，zui小线宽5um，深宽比zui大2：1；亚克力模具，适合大于0.1mm的流道。顶旭微控，拥有he心技术，多年加工经验，效率gao，承接科研定制，企业小批量、大批量定制。UV曝光过程曝光的目的是通过ji活光刻胶某些部分中的 PAC（PhotoActiv 组件）来引发交联。这种活化将改变树脂的局部特性，树脂在烘烤后将溶于或不溶于溶剂。由于SU-8是负性光刻胶，这意味着暴露在紫外线下的部分会变硬，而另一部分会在显影过程中溶解。必须仔细选择一些参数：SU-8的曝光波长为365nm。时间取决于层厚和灯的功率。接触模式很重要，如果没有硬接触，您可能会失去一些分辨率，而使用真空接触，您可能会将晶圆粘在掩模上。 SU8模具-顶旭微控技术(图)由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家从事“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使顶旭在生物制品中赢得了客户的信任，树立了良好的企业形象。 特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！ 产品：顶旭供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
