纯硅模具介绍纯硅模具是制备高深宽比微通道的理想选择，利用硅的干法刻蚀技术，可以轻松实现深宽比zui高达25:1的微通道结构，而且线条宽度可控制在2微米以上，精度误差仅在±1微米范围内。 然而，硅表面通常具有强烈的亲水性，这可能导致PDMS芯片在脱模时黏附在硅表面，制造过程中的一大挑战。为解决这个问题，通常需要对硅表面进行疏水修饰，使硅表面变得疏水，确保PDMS芯片能够轻松从硅模具上脱离，而不受亲水性的干扰（具体疏水解决方案可咨询销售） 环氧树脂SU-8模具硬烤（光刻胶的第三次烤）第三次也是zui后一次光刻胶烘烤称为“硬烘烤”，这是该过程的zui后一步，PDMS模具，但可以是可选的。在工艺结束时，SU-8 光刻胶内部会保留大量强度，这可能会在表面产生裂纹，甚至分层……硬烘烤会在高温（超过 120°C）下加热 SU-8 光刻胶压制这些力量。多亏了它，一些裂缝消失了，SU-8 光刻胶变得更硬了。再次，它与软烘烤和PEB相同，光刻胶的增加和冷却必须稍微进行。SU-8光刻胶模具开发显影是在溶剂中稀释未连接的 SU-8 光刻胶的步骤。在这一步，设计在基板上显露出来。SU-8 的开发要归功于 SU-8 开发人员。它是Microchem的产品，主要由PGMEA（bing二醇单jia醚乙suan酯）组成，但由于乳酸乙酯或二bing酮醇，您也可以开发SU-8。将您的晶圆放入装有 50mL 显影液的结晶器中。SU-8 开发的时间取决于 1 分钟到 15 分钟以上的层厚度。在开发过程中保持良好的搅拌，以达到zui佳的开发效果。用异bing醇冲洗晶圆。如果仍有一些白色痕迹，请在 1-2 分钟内再次显影。如果再次残留，则更换溶液并使用 50mL 新显影剂 1-2 分钟。擦干的晶圆。 新疆维吾尔自治PDMS模具-顶旭微控(图)由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司是从事“微流控芯片定制，微流控芯片加工设备，微流控仪器，表面修饰”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供更好的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：周经理。 产品：顶旭供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
