负性SU-8光刻胶旋涂为了创建稍后将成为模具的光刻胶层，我们使用匀胶机进行旋涂，旋转速度、加速度和 SU-8 光刻胶粘度将决定 SU-8 光刻胶层的厚度。要成功执行此步骤，必须采取一些预防措施：确保您的旋涂机完全平整。将晶圆尽可能居中放置在旋涂机卡盘上，以获得ziui佳的涂层分布。出于与晶片相同的原因，将您的光刻胶尽可能地居中。分两步涂覆 SU-8 光刻胶，纯硅模具，一个在 10 到 30 秒内以低速和低加速度将光刻胶涂抹在基板上，然后在 30 到 60 秒内以高速和加速第二步以控制层厚度。使用微量移液器分配光刻胶以控制使用的 SU-8 光刻胶数量。 UV曝光过程曝光的目的是通过ji活光刻胶某些部分中的 PAC（PhotoActiv 组件）来引发交联。这种活化将改变树脂的局部特性，树脂在烘烤后将溶于或不溶于溶剂。由于SU-8是负性光刻胶，这意味着暴露在紫外线下的部分会变硬，而另一部分会在显影过程中溶解。必须仔细选择一些参数：SU-8的曝光波长为365nm。时间取决于层厚和灯的功率。接触模式很重要，如果没有硬接触，您可能会失去一些分辨率，而使用真空接触，您可能会将晶圆粘在掩模上。PDMS是制作微流控芯片的主要材料，PDMS芯片制作的主要方式为模塑法，模塑法要求有良好的塑性成型模具，以采用机械加工方式制备的亚克力和金属模具，在制备大深宽比流道具有很大的优势，强度较硅模具和SU8模具强，可多次反复重新使用，同时具有较高性jia比gao。亚克力模具以制备PDMS芯片的简易性和经济性而著称，通过数控精雕机可高度jing确地制备，其表面具有一定疏水性，有助于PDMS材料的轻松脱模，适用于制备流道宽度大于0.1毫米以上、误差控制在±20微米左右的微通道结构，是一种在精度要求适中的应用中具备成本效益和gao效制备的理想选择。 河北纯硅模具-顶旭苏州微控技术(在线咨询)由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司是江苏 苏州 ,生物制品的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在顶旭领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创顶旭更加美好的未来。 产品：顶旭供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
