耗材硅片硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。光刻掩膜板光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。 热板温度：0~300℃温度稳定性：±1℃功率：850W台面大小：200x200mm公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将专ye知识与思维相结合，为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，桌面光刻机，不断挑战自我，不断追求卓yue，通过专ye、和合作，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。匀胶机调速范围和时间：I档：50~10000转/分，时间0~999sII档：50~10000转/分，时间0~999s适用：直径5~100mm硅片及其他材料匀胶转速稳定性：±1％胶的均匀性：±2％电极功率：40W，单相110~240V真空泵抽气速率：＞60L/min顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业，我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。 桌面光刻机-顶旭苏州微控技术由顶旭（苏州）微控技术有限公司提供。顶旭（苏州）微控技术有限公司拥有很好的服务与产品，不断地受到新老用户及人士的肯定和信任。我们公司是商盟认证会员，点击页面的商盟客服图标，可以直接与我们客服人员对话，愿我们今后的合作愉快！ 产品：顶旭供货总量：不限产品价格：议定包装规格：不限物流说明：货运及物流交货说明：按订单
