镍颗粒 高纯镍颗粒 真空蒸发镀用高纯镍颗粒
北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应高纯镍粒，高纯镍颗粒，镍粒以及镍块的相关产品，产品规格如下：
高纯镍颗粒纯度为：99.9% 99.99% 99.999% 99.9999%。
高纯镍颗粒规格尺寸：
1-10mm不规则镍颗粒 10-100mm不规则镍块
2*10mm规则镍颗粒 3*3mm规则镍颗粒
6*8mm规则镍颗粒6*6mm规则镍颗粒
6*12mm规则镍颗粒 其它尺寸可根据客户要求定做。
高纯镍粒熔点：1455 蒸发方法：钨丝、氧化铍或铝土坩埚、用镍靶材溅射镀膜，镀制中性膜，反光膜，也可用于加热器。
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本公司长期供应镍靶，高纯镍靶材，镍靶材，高纯镍粒，高纯镍柱，高纯镍板，镍锭，镍丝，镍型材，纯度3N-6N，平面靶材，磁控溅射旋转靶材。本公司拥有国内外的技术设备，和高端的技术人员，通过真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等技术，研发制造高纯度靶材，我们的靶材纯度高，致密度高，放气量小，晶粒细，成膜质量好，价格优惠，欢迎新老客户来电咨询！
北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应高纯镍靶，高纯镍靶材，镍靶以及镍靶的相关产品，产品规格如下：
1、高纯镍靶材的纯度为，99.9%，99.99%,99.999%,高纯镍靶的分析单会在发货同时发出。
2、高纯平面镍靶材的常用规格：Ø100*4，Ø168*3.5，400*100*6-13，等。
3、高纯磁控溅射镍靶材常用规格：Ø100*80，等。
4、高纯蒸发镀用镍丝：直径Ø0.3-5。
5、蒸发镀用高纯镍粒：10*10，6*6，3*3，2*10等规格。
6、高纯镍靶材的生产工艺为真空熔炼，粉末冶金，等静压等。
7、高纯镍靶材的规格可根据客户要求定做，也可以根据各种图纸加工。
