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主营产品:研磨机价格,分散机价格,乳化机价格,均质机价格,混合机价格

[供应]二氧化硅研磨混合机

更新时间:2024/3/26 14:03:53
二氧化硅研磨混合机
一.研磨机:机型19款,处理量50到8*10000KG/小时,旋转1100到1.4*10000转/分钟,线速度23到44m/秒,电滚功耗1.5到160kW,磨头胶体磨&锥体磨。

二.研磨分散机:机型6款,处理量50到6*1000KG/小时,旋转1100到9*1000转/分钟,线速度23m/秒,电滚功耗2.2到150kW,磨头胶体磨。

三.小型分散乳化机:机型30款,处理量0.2克到10KG/小时,旋转50到3*10000转/分钟,线速度3到33m/秒,电滚功耗0.3到0.8kW。

四.真空分散乳化机:机型32款,处理量5到2*10000KG/小时,旋转14到1.4*10000转/分钟,线速度44m/秒,电滚功耗0.18到120kW。

五.均质匀浆机:机型4款,处理量0.2到150克/小时,旋转3500到8*1000转/分钟,线速度3到10m/秒,电滚功耗0.145到0.18kW。

六.多效用分散乳化均质机:机型27款,处理量150到12.5*10000KG/小时,旋转960到1.4*10000转/分钟,线速度10到44m/秒,电滚功耗1.5到160kW。

七.混合机:机型I6款,处理量300到12.5*10000KG/小时,旋转1100到9*1000转/分钟,线速度20到23m/秒,电滚功耗1.5到160kW。

八.实用物料种类:胶粘溶胶,巨粒子固态液体悬空液乳剂,不包溶等。

九.终级粒径:主腔内有叁组定转子,每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙,加工后地终级粒径在10微纳米之下。

十.胚料配件:百分之八十以上进ロ海内外公司。

十一.技艺出处:引荐德国技艺,立发明加工,备有专利。

十二.工作方式:有在线式,批次式,内外循环式,水管式,可倒式,若干效用式。

十三.机型合成:靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。

十四.智力化:CIP冲洗系统,液压升降松盖,包括配料给料吸料安装。

十五.磨头好处:研磨头可调5款模版,6款分散头,20多款工作头。

十六.锥磨好处:锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料,提防毁伤腐蚀。

十七.机型材料:统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢,主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH(卫生级),无死角。

十八.密封好处:博格曼双机械密封,液压平稳系统(可以担当16atm重压),软密封。

十九.搅动方式:可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。

二十.机型好处:机型采选上层同轴三重装搅动器,循环管路,出水阀。

二十一.操控箱好处:不但可以操控电滚旋转,摄氏度降温升温(经历电能,热汽,油水循环,可以担当-40到250摄氏度),重压,PH度,粘性。且可以设定不一样效用模版,呈现相称地个个参数,可以线性扩大量产。

二十二.可抉选:参观窗,硅氟酸玻璃参观,电导率计,二层绝缘保护,稳定夹,作业台,底盘,图案解析多功用显微硬度仪(测量界线1—4千维氏硬度),管路式测量电炉(测量界线zui高1350度),传送泵/转子泵/气动隔膜泵/锚杆泵/离心泵(产量850—4.3万升/H),反应翻搅单罐/多罐(500—3千升/H),反渗入/全自动纯净装备(0.5—3千升/H),超氧产生器,过流式紫外光灭菌器等。

二十三.别的特长:整体立方小,电耗低,分贝低,可每日不断出产。

二十四.访客垂访:按照访客实况必要恰当抉选!别的可订制非标和生产线!假若是非常情况,比方超温,超压,易烧易炸,侵蚀性,可产品升级!

二十五.物料测量:得到访客物料后当即投入测量,瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。

二十六.方案价格:断定好产品功用后当即策画方案,包含2D部署图,总安装出产线表示图,立体成果图,&呈上本该得价格单子!

二十七.结语:我们是出产厂家,详尽信息可以企业查看,因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈!以上信息不容坊造,非常道谢!

扩展内容可不看:二氧化硅是一种无机化合物,化学式为 SiO2。 硅原子和氧原子长程有序排列形成结晶二氧化硅,短程有序或长程无序排列形成无定形二氧化硅。在二氧化硅晶体中,硅原子位于正四面体的中心,四个氧原子位于正四面体的四个角上。许多这样的四面体由角落处的氧原子连接。这两个四面体是共同的,即每个氧原子与两个硅原子结合。二氧化硅简单的公式是SiO2,但SiO2并不代表一个简单的分子(它只代表二氧化硅晶体中硅和氧的原子数之比)。二氧化硅晶体,是一种坚硬、脆、不溶、无色透明的固体,常用于制造光学仪器等。物理性质:结晶二氧化硅,密度2.2 g/cm3,熔点1723℃,沸点2230℃,折射率1.6,受热变化受热时与强碱熔化形成硅酸盐,溶解性不溶于水能与HF反应生成气态SiF4。
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