真空镀膜系统
电子束蒸发源蒸镀法
将蒸发材料放入水坩锅中,直接利用电子束加热,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。
依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术,根据电子束蒸发源的形式不同,又可分为环形,直,e型和空心阴极电子等几种。
环形是由环形的阴极来发射电子束,经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单,但是功率和效率都不高,真空镀膜哪家好,基本上只是一种实验室用的设备,目前在生产型的装置中已经不再使用。
多功能真空镀膜机
真空镀膜机工作时,需要先抽真空,使真空室处于真空状态,再进行镀膜;镀膜完成后,需要向真空室充气。现有技术中,真空镀膜机的充气管道直接与外界连通,容易把外界空气中的灰尘带入真空室,导致镜片上吸附灰尘,造成产品不良真空蒸渡金属薄膜是在高真空条件下,以电阻、高频或电子加热使金属熔融气化,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜,其中被镀金属材料用的1多的是铝,在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄或镀铝纸,在镀铝薄膜生产过程中对于真空条件是有严格限定的,真空度过高或过低都会影响镀膜的性能,目前,工厂里使用的镀膜机对于真空度的控制并不是很稳定,导致生产过程中产品的性能不够稳定,真空镀膜厂家,因此,解决生产过程中镀膜机里的真空度不易控制的问题尤为重要,上海真空镀膜,而且内部镀膜物件的温度高,需要及时降温,提高工作效率。
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真空镀膜系统
工艺气体输入系统
工艺气体,如气(Ar)、气(Kr)、氮气(N2)、(C2H2)、(CH4)、氢气(H2)、氧气(O2)等,一般均由气瓶供应,经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀,然后通入真空室。这种气体输入系统的优点是,管路简捷、明快,维修或更换气瓶容易。各涂层机之间互不影响。也有多台涂层机共用一组气瓶的情况,这种情况在一些规模较大的涂层车间可能有机会看到。它的好处是,减少气瓶占用量,统一规划、统一布局。缺点是,由于接头增多,使漏气机会增加。而且,各涂层机之间会互相干扰,真空镀膜公司,一台涂层机的管路漏气,有可能会影响到其他涂层机的产量。此外,更换气瓶时,必须保证所有机台都处于非用气状态。
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