溶剂净化
载气
载气的选择一般是根据检测器和分离要求决定的，气相色谱一般使用N2作为载气，气质联用时使用He作为载气，对于分离要求高的会使用H2作为载气，但H2作载气的时候用于ECD检测器。
进样口温度
进样口的温度是根据样品的沸点、热稳定性、进样量、柱温等综合考虑，不一定要达到沸点，但要保证样品能随着载气进入色谱柱而不析出来，进样量小的时候可以降低进样口温度，一般高于柱温10~50℃。
氢气净化设备应用领域
高纯氢气广泛应用于石油化工、电子工业、电子半导体、冶金工业、机械、食品加工、浮法玻璃、高纯材料和光电材料等产业部门和科学研究中、生产部门亦可作为热处理保护气体以及精细有机合成、航空航天等方面有着广泛的应用。例如本机已在精密合金热处理、航天航空、半导体硅材料、硅外延、化合物半导体等的生产中的应用，效果都很好。
备注：其他类型的原料氢气更具实际情况设计工艺。
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气体净化技术进展
在当前的气体净化技术中，干法和薄膜分离法的研究与开发比较迅速。由于它们具有净化度高、流程简单和能量消耗少等优点，故有取代传统的湿法和深冷分离净化工艺的趋势。在干法净化中，变压吸附工艺发展很快，目前已广泛地应用于天然1气和合成气的净化，以及制氢和1氧化碳提纯等领域中。
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