现有镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。
其中热阴极电子蒸发离子镀，利用铜坩埚加热融化被镀金属材料，金属镀钛厂家哪家好，利用钽灯丝给工件加热、除气，利用电子增强离化率，不但可以得到厚度 3~5μm的TiN 涂层，而且其结合力、性均有不俗表现，甚至用打磨的方法都难以除去。但是这些设备都只适合于 TiN涂层，处理镀钛厂家哪家好，或纯金属薄膜。对于多元涂层或复合涂层，则力不从心，难以适应高硬度材料高速切 削以及模具应用多样性的要求。
带正电荷的蒸发料离子，在阴极吸引下，商丘市镀钛厂家哪家好，随同离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件：接通直流电源，真空镀钛厂家哪家好，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
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