靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下，金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度，即可确定靶电流密度.
降低Ar压强有利于提高镀膜速率，还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的Ar压强通常选为0.5Pa，气体放电的阻抗随Ar压强的降低而升高.磁控溅射时，可以适当调节Ar压强，
带正电荷的蒸发料离子，真空镀钛厂家电话，在阴极吸引下，濮阳真空镀钛厂家，随同离子一同冲向工件，当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
在真空条件下，真空镀钛厂家服务，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。
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