详细说明 二氧化硅,高纯二氧化硅颗粒,二氧化硅靶,二氧化硅蒸发材料,镀膜二氧化硅 化学符号:SiO2 沸 点:2230℃ 纯 度:4N 规 格:1-4mm,颗粒,靶材 分 子 量:60.08 外 观:白色 熔 点:1700℃ 密 度:2.2-2.7g/cm3 在10-4Torr真空下蒸发温度为:1025℃ 透 明 区